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顯影液過濾及液體分離系統

可分離各種液體。

分子量處理範圍 500~10,000。

提升良率,維持顯影液濃度穩定。

節省成本,大幅降低顯影液消耗。

提升產速,減少保養週期與工時。

節省大量用水及排水,降低廠務負擔。

自動清洗,濃度管理,使用效果及壽命有保障。

可擴充各種功能滿足生產條件。

處理量 1~100 CMH。

此系統已榮獲4 國專利。


化學膜過濾系統

KOH顯影液
過濾前 過濾後
KOH_Before KOH_After
導電度
μs/cm
2277 2856
PH值
(ph)
10.39 10.38
總溶解固體TDS
(ppm)
1428 1138


NaOH顯影液
過濾前 過濾後
NaOH_Before NaOH_After
導電度
μs/cm
3860 3446
PH值
(ph)
10.43 10.40
總溶解固體TDS
(ppm)
1932 1728


Na2CO3顯影液
過濾前 HP濾心 UHP濾心
Na2CO3_Before Na2CO3_HP Na2CO3_UHP
導電度
μs/cm
14970 14770 14580
PH值
(ph)
11.01 11.01 11.01
總溶解固體TDS
(ppm)
7480 7380 7290


半導體化學研磨廢液(CMP)
過濾前 過濾後
Na2CO3_Before Na2CO3_HP
砷(As)含量(mg/kg) 1260 661
鎵(Ga)含量(mg/kg) 691 0
固含量(mg/g) 2.94 0.792